真萍科技HMDS真空烤箱是怎样工作的？
在半导体生产工艺中，光刻是至关重要的一个工艺环节，而涂胶工艺的好坏，直接影响到光刻的质量。随着光刻线条的越来越细，胶的越来越薄，对粘附力提出了更高的要求，于是真萍科技研制出了现在的HMDS专用烘箱，即HMDS真空烤箱。
一、真萍科技HMDS真空烤箱预处理系统的优点有：
1.预处理性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以不会有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。等
2.处理更加均匀。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。
3.效率高。液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。
4.更加节省药液。实践证明，用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多；
5.更加环保和安全，HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、肚子痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，所以不会有人接触到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以也不会对环境造成污染。
二、真萍科技HMDS真空烤箱一般工作流程：
首先确定烘箱工作温度，典型的程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空后，开始冲入氮气，达到某低真空后，再次进行抽真空冲入氮气，达到设定的冲氮次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分，然后再次开始抽真空，冲入HMDS气体，在达到设定时间后停止充入，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当保持时间达到设定值后，再次开始抽真空，冲入氮气，完成整个作业过程。
真萍科技作为专业的HMDS真空烘箱设备制造厂商，可根据客户特殊需求定制您需要的满意产品，有需求的客户详情请咨询400-608-2908。
